日 수출규제 ‘포토레지스트’ 개발 나선다 전남대, 보유중인 원천기술 기반 토대 2023까지 총 55억여원 연구비 투입 최권범 기자

2020년 05월 26일(화) 20:00

무기 EUV 포토레지스트 (개념도)

전남대가 기존에 보유하고 있는 원천기술을 기반으로 일본의 3대 수출 규제 품 중 하나인 EUV 포토레지스트 개발에 주도적으로 나선다.

26일 전남대에 따르면 4차 산업혁명의 핵심소재 가운데 하나인 EUV 무기 포토레지스트 개발을 정부에 제안해 연구개발 국책사업으로 채택됐다.

산업통상자원부(한국기술평가관리원)의 소재부품기술개발사업으로 채택된 ‘무기 나노입자 기반 하이브리드형 EUV 포토레지스트 개발’ 과제는 오는 2023까지 모두 55억여원의 연구비가 투입돼 진행된다.

EUV 무기 포토레지스트는 소재·부품·장치산업 중 산업통상자원부가 관리하는 국내핵심소재이며, 기존의 유기(organic) 소재가 아닌 무기(inorganic) 소재 기술 개발에 나서는 것도 국내 최초이다. 유기 포토레지스트가 지닌 선폭 불균일성, 낮은 에칭저항성의 문제를 근본적으로 해결할 수 있는 장점을 지니고 있다.

국책연구에는 원천기술보유기관인 전남대를 비롯해 포항가속기연구소, 한국화학연구원이 참여기관으로 나서고, 참여기업은 주관기관인 포켐래버래토리를 비롯해 DCT머티리얼, JSI실리콘 등으로 모두 6개 기관·기업이 컨소시엄을 구성했다.

특히 전남대는 나노소재 및 계면 연구실(정현담 교수·화학과)이 기존에 확보하고 있는 무기 나노입자 박막 소재 기술을 바탕으로, 금속 산화물 클러스터 박막 기술과 전자 구동 화학을 연구하고, 이를 활용해 참여 기업들의 EUV 무기 포토레지스트 개발을 지원하며 이끌게 된다.

이 연구가 성공하면 반도체 핵심 소재에 대한 일본의 의존에서 벗어날 수 있고, 국내 반도체 산업의 장기적인 측면에서의 경쟁력 확보가 가능할 것으로 기대된다.

일본은 지난해 7월 EUV 포토레지스트, 고순도 불화수소(에칭가스), 플루오린 폴리이미드 등 3개 품목에 대해 우리나라 수출을 규제했는데, 이중 EUV 포토레지스트 규제는 한국의 고성능, 고집적 반도체 기술의 안정적 발전과 4차 산업혁명 시대의 핵심 경쟁력 확보를 저해한다는 지적과 함께, 이를 극복하기 위한 국가차원의 소재기술 개발이 절실히 요구돼 왔다./최권범 기자